三氟化氮（英文名：Nitrogen trifluoride），无机化合物，分子式为NF₃，分子量71.001，摩尔质量71.001 g/mol。分子结构与氨类似，氮原子居于四面体中心。 在纯净状态下通常被认为是无色无味气体。在低温时呈现为不透明固体，温度上升到-216.54℃时变为透明，熔点为-206.79℃，沸点为-129.01℃，相对密度1.537（-129℃）。在高温下表现出良好的稳定性，可耐受高达627℃的温度。 

在常温下不和水、稀酸或稀碱作用。 似乎不具有碱性，通常要到 250-300℃ 时才表现出活泼性。和水蒸气、氢气、氨气、一氧化碳或硫化氢等的混合气体，遇火花即发生猛烈爆炸。在中性或强酸性溶液中不发生水解，在氢氧化钠溶液中加热到 100℃ 时缓慢水解。高温下表现出强氧化性，能与金属、氧化物、卤化物作用生成相应的氟化物。

常被用作半导体制造工艺中的蚀刻气体，也用作高能燃料和火箭推进剂中的氧化剂， 还用作氟化剂和作为制备其它氮的氟化物的原料。通常用熔盐电解法制得，也可直接氟化氨化钠或氨气而获得。采用辉光放电法使氮气和氨气直接作用也能制备三氟化氮。

有毒，对人体组织有腐蚀作用，长期暴露于低浓度的三氟化氮环境中会损害牙齿、引起骨骼病变。 吸入相对高浓度的三氟化氮时，会出现头痛、呕吐、腹泻等症状，应立即移至新鲜空气处，必要时进行人工呼吸，受污染部位迅即用清水冲洗。

应用领域

三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有爆炸性，操作时应十分谨慎。还可用作高能燃料。